Китайские ученые создали новый компактный источник VUV-излучения

Группа ученых из Синьцзянского технического института физики и химии Китайской академии наук представила новый нелинейно-оптический кристалл ABF (фтороксоборат аммония, NH₄B₄O₆F). Этот материал решает трудности с созданием компактных источников вакуумно-ультрафиолетового (VUV) излучения, чего не удалось добиться, например, компании ASML. Исследования шли более 10 лет и открыли возможности для создания лазеров с длиной волны ниже 200 нм. Применяя технологию удвоения частоты, команда достигла рекордной длины волны 158,9 нм, установив новый стандарт для твердотельных лазеров. В дополнение, система показала максимальную энергию импульса 4,8 мДж с эффективностью 7,9%. Кристалл ABF отличается компакtnостью, сниженной стоимостью и улучшенной стабильностью по сравнению с традиционными газовыми лазерами и синхротронными источниками. Возможные области применения включают литографию, квантовые вычисления и исследование химических реакций.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Сайт для студентов