ASML подтверждает готовность нового литографического оборудования к массовому производству

Компания ASML, лидер в производстве литографического оборудования, сообщила, что ее новейшие сканеры с высокой числовой апертурой (High-NA) вызывают интерес даже у тех производителей чипов, кто не собирается использовать эту технологию в ближайшие годы. Технический директор ASML Марко Питерс сообщил агентству Reuters, что недавние испытания подтвердили готовность оборудования к массовому производству полупроводников. На конференции в Сан-Хосе, Калифорния, компания представит результаты своих тестов литографического оборудования класса High-NA EUV, которое уже смогло обработать около 500 000 кремниевых пластин. Стоимость одного такого сканера составляет около $400 миллионов, и ASML уверяет, что они готовы к серийному производству. Несмотря на это, клиентам потребуется от двух до трех лет для полной адаптации своих технологий, хотя Intel, TSMC и Samsung уже начали изучение нового оборудования. ASML также планирует сократить время простоя до 10% к концу года, улучшая эффективность своих сканеров.

Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Сайт для студентов